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Werkstoff: Gehäuse Stahl. Magnetkern NdFeB. Ausführung: Gehäuse verzinkt. Hinweis: Geschirmtes System. Mit dem Dauermagnetwerkstoff NdFeB erhöht sich die Haftkraft gegenüber dem SmCo nochmals um ca. 10-20 %. Temperaturbereich: max. 80 °C.

Werkstoff: Gehäuse Stahl. Magnetkern NdFeB. Ausführung: Gehäuse verzinkt. Hinweis: Geschirmtes System. Mit dem Dauermagnetwerkstoff NdFeB erhöht sich die Haftkraft gegenüber dem SmCo nochmals um ca. 10-20 %. Temperaturbereich: max. 80 °C.

Werkstoff: Gehäuse Stahl. Magnetkern NdFeB. Ausführung: Gehäuse verzinkt. Hinweis: Geschirmtes System. Mit dem Dauermagnetwerkstoff NdFeB erhöht sich die Haftkraft gegenüber dem SmCo nochmals um ca. 10-20 %. Temperaturbereich: max. 80 °C.

Die fotolithografische Strahlfolie I-HE wird mit einem Trockenresist-Laminator auf das Substrat heiß auflaminiert und die Belichtung erfolgt sobald das Material auf Zimmertemperatur abgekühlt ist. I-HE wurde speziell für die Anwendung „PowderBlasting“ (mikroabrasiver Materialabtrag durch Sandstrahlung) und für die Bearbeitung technischer Gläser und Keramiken entwickelt. Die fotolithografische Strahlfolie I-HE wird mit einem Trockenresist-Laminator auf das Substrat heiß auflaminiert und die Belichtung erfolgt sobald das Material auf Zimmertemperatur abgekühlt ist. Im Gegensatz zu anderen Photoresist Materialien und Strahlfolientypen wird I-HE nicht mit alkalischen Lösungen entwickelt, sondern mit Wasser. Chemische Zusätze werden weder zur Entwicklung, noch zur Entschichtung (Stripping) benötigt. Anwendungsgebiete von I-HE: Mikroperforation von Dünnglas (Wafer) und technischen Keramiken MEMS packaging Lens packaging Produktion von Lab on Chip - Systemen Gravur von Identifikationsnummern und Firmenzeichen / Logos Gezielte Oberflächenstrukturierung von Metall. I-HE ist verfügbar in Rollen in: 75µ 100µ Menge: Rolle Größe: 20,96cm x 50m Rolle Artikelnummer: ID 17564

Die fotolithografische Strahlfolie I-HE wird mit einem Trockenresist-Laminator auf das Substrat heiß auflaminiert und die Belichtung erfolgt sobald das Material auf Zimmertemperatur abgekühlt ist. I-HE wurde speziell für die Anwendung „PowderBlasting“ (mikroabrasiver Materialabtrag durch Sandstrahlung) und für die Bearbeitung technischer Gläser und Keramiken entwickelt. Die fotolithografische Strahlfolie I-HE wird mit einem Trockenresist-Laminator auf das Substrat heiß auflaminiert und die Belichtung erfolgt sobald das Material auf Zimmertemperatur abgekühlt ist. Im Gegensatz zu anderen Photoresist Materialien und Strahlfolientypen wird I-HE nicht mit alkalischen Lösungen entwickelt, sondern mit Wasser. Chemische Zusätze werden weder zur Entwicklung, noch zur Entschichtung (Stripping) benötigt. Anwendungsgebiete von I-HE: Mikroperforation von Dünnglas (Wafer) und technischen Keramiken MEMS packaging Lens packaging Produktion von Lab on Chip - Systemen Gravur von Identifikationsnummern und Firmenzeichen / Logos Gezielte Oberflächenstrukturierung von Metall. I-HE ist verfügbar in Rollen in: 75µ 100µ Menge: Rolle Größe: 0,61m x 50m Rolle Artikelnummer: ID 12322